台积电3nm工艺即将投产:密度比5nm高60%
据techpowerup报道,台积电正在开发包括N3.N3B和N3E多个节点在内的3nm工艺。
据了解,台积电原计划于2022年下半年量产N3节点,2023年下半年量产N3E计划。
但由于N3E节点作为3nm简化版,量产率较高,台积电希望尽快商业化,可能提前到2023年上半年。
N3E的工艺流程已经提前准备好,工艺流程将在本月底确定。
据悉,N3E在N3的基础上降低了EUV光罩层数,从25层降低到21层,逻辑密度降低了8%,但仍高于5nmN5工艺节点60%,性能更好。功耗和产量。
相比之下,据说N3的逻辑密度比N5高70%。
还有N3B,据说是一些客户N3的改进版,但我们对N3B节点知之甚少。
N3E和N3B都不是用来取代N3的,只是让客户有更多的选择,在不同的产品上有更好的性能和功耗。